Η PVD (Physical Vapor Deposition στα αγγλικά, ή φυσική εναπόθεση σε ατμό στα γαλλικά) είναι μια διαδικασία επικάλυψης μεταλλικών εναποθέσεων που επιτρέπει την εναπόθεση λεπτών φιλμ υλικού υπό κενό μέσω ατμού.
Η θερμοκρασία εναπόθεσης για τις επικάλυψεις PVD κυμαίνεται γενικά μεταξύ 80 και 150°C.
Το πάχος της εναπόθεσης είναι 2 +/-05 (μικρόν)
Η σκληρότητα HV 0.05 κυμαίνεται μεταξύ 800-1000
Σύμφωνο με τις προδιαγραφές REACH και RoHS
Η PVD (Physical Vapor Deposition στα αγγλικά, ή φυσική εναπόθεση σε ατμό στην ελληνική) είναι μια διαδικασία εναπόθεσης επικαλύψεων που επιτρέπει την ...
Η ALD (Κατάθεση Ατομικών Στρωμάτων στα αγγλικά, ή κατάθεση ατομικών στρωμάτων στα γαλλικά) είναι μια διαδικασία κατάθεσης που επιτρέπει την κατάθεση λ...
Η PVD (Physical Vapor Deposition στα αγγλικά, ή φυσική εναπόθεση σε ατμό στην ελληνική) είναι μια διαδικασία εναπόθεσης επικαλύψεων που επιτρέπει την ...
Η ALD (Κατάθεση Ατομικών Στρωμάτων στα αγγλικά, ή κατάθεση ατομικών στρωμάτων στα γαλλικά) είναι μια διαδικασία κατάθεσης που επιτρέπει την κατάθεση λ...