Κατάθεση Ατομικών Στρωμάτων (ALD)
Κατάθεση Ατομικών Στρωμάτων (ALD)

Κατάθεση Ατομικών Στρωμάτων (ALD)

Η ALD (Κατάθεση Ατομικών Στρωμάτων στα αγγλικά, ή κατάθεση ατομικών στρωμάτων στα γαλλικά) είναι μια διαδικασία κατάθεσης που επιτρέπει την κατάθεση λεπτών φιλμ υλικού υπό κενό, χρησιμοποιώντας αέριους προδρόμους. Τα κομμάτια που πρόκειται να επεξεργαστούν τοποθετούνται σε μια μηχανή υπό κενό. Αφού εισαχθεί ένας προδρόμος A που κατατίθεται σε όλη την επιφάνεια των κομματιών, εισάγεται ένας προδρόμος B και αντιδρά με τα πρώτα κατατεθειμένα άτομα για να σχηματίσει μια πρώτη ατομική στρώση. Αυτός ο κύκλος επαναλαμβάνεται μέχρι να επιτευχθεί το επιθυμητό πάχος. Η θερμοκρασία κατάθεσης κυμαίνεται μεταξύ 150 και 200°. Τα πλεονεκτήματα Τέλεια συμμόρφωση Εξαιρετική ομοιογένεια σε 3D κομμάτια Αναπαραγωγιμότητα της επικάλυψης Έλεγχος του πάχους σε νανοκλίμακα Καλή χημική σταθερότητα Εξαιρετική στρώση φραγμού Μη ρυπογόνα τεχνολογία
Παρόμοια προϊόντα
1/2
ΦΥΣΙΚΗ ΕΦΑΡΜΟΓΗ ΑΤΜΟΥ (PVD) - ΜΑΓΝΗΤΡΟΝ ΣΠΟΥΤΕΡING
ΦΥΣΙΚΗ ΕΦΑΡΜΟΓΗ ΑΤΜΟΥ (PVD) - ΜΑΓΝΗΤΡΟΝ ΣΠΟΥΤΕΡING
Η PVD (Physical Vapor Deposition στα αγγλικά, ή φυσική εναπόθεση σε ατμό στην ελληνική) είναι μια διαδικασία εναπόθεσης επικαλύψεων που επιτρέπει την ...
CH-1228 Plan-Les-Ouates Ge
Roll to Roll – PVD Μεταλλοποίηση
Roll to Roll – PVD Μεταλλοποίηση
Η PVD (Physical Vapor Deposition στα αγγλικά, ή φυσική εναπόθεση σε ατμό στα γαλλικά) είναι μια διαδικασία επικάλυψης μεταλλικών εναποθέσεων που επιτρ...
CH-1228 Plan-Les-Ouates Ge